台高檢署持續擴大偵辦後發現，陳力銘除先前吸收吳秉駿、戈一平等台積電工程師，翻拍並外流數百張2奈米晶片製程與試產參數外，另透過一名在職工程師陳韋傑，竊取台積電「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等核心機密。該項技術已經經濟部核定，屬於國家核心關鍵技術之營業秘密。
檢調指出，案件於去年6月曝光後，東京威力一名高階主管盧怡尹在公司雲端硬碟中發現相關機密資料，竟私自刪除檔案，涉嫌湮滅刑事證據。檢方為釐清東京威力是否已「盡力防止不法行為」，進一步清查其雲端資料時，仍發現存有台積電核心技術檔案。
去年11月10日，台高檢署指揮調查局新竹市調查站，持法院核發搜索票執行搜索，並約詢涉案陳姓工程師，隨後向法院聲請羈押禁見獲准。陳力銘則已坦承犯行，並供出其所吸收的下線即為工程師陳韋傑。
檢察官認定，陳力銘、陳姓工程師及東京威力公司，涉犯《國家安全法》第8條第2項，擅自重製並持有國家核心關鍵技術之營業秘密，依法追加起訴；東京威力主管盧怡尹則另涉《刑法》湮滅刑事證據罪，同樣遭到起訴。
量刑部分，檢方指出，陳韋傑犯後至今未完全坦承犯行，態度不佳，具體求處有期徒刑8年8月；陳力銘因供出共犯，協助案件順利查獲，檢方求刑7年，並請法院審酌是否適用《國家安全法》第8條第6項規定予以減刑。至於盧怡尹，檢方認其為卸責而刪除關鍵檔案，妨害刑事偵查，且犯後否認犯行，求處有期徒刑1年。
