AI運算帶動高速傳輸需求,全球半導體產業正積極導入矽光子與共同封裝光學(CPO)架構,以突破傳統電訊號在頻寬、功耗與散熱上的限制。在新一代光通訊元件逐步邁向量產之際,如何快速找出光損來源、提升良率,也成為供應鏈關鍵課題。
檢測分析廠汎銓今(11)日召開股東常會,董事長柳紀綸指出,公司除持續深化先進製程材料分析布局外,也正加速推進矽光子與CPO相關業務商業化,並將其視為未來重要成長引擎。
汎銓表示,矽光子晶片(PIC)、光學引擎(OE)、光纖陣列單元(FAU)及光模組產品,在研發驗證與量產導入過程中,光損問題往往直接影響產品效能、良率與量產效率。公司多年來累積PIC晶圓、PIC晶片、光學引擎及光模組分析與除錯經驗,已成功開發「MSS HG光損偵測定位平台」,協助客戶快速找出漏光位置、耦光異常點及光損根因。
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