中國半導體追兵1／中國國產DUV傳量產 設備自主挫ASML股價

根據美國科技媒體《The Information》和《路透社》報導，中國已開始量產自主研發的浸潤式DUV曝光機，由上海新成立、具官方背景的愛晟納電子科技集團主導，整合上海微電子及宇量昇等團隊技術，首批設備預計今年交付中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等中國主要晶圓與記憶體製造商。

曝光機是晶圓製造最核心的設備之一，其中EUV主要用於7奈米以下先進製程，而浸潤式DUV則是目前28奈米及以上製程的主力設備，若搭配多重曝光技術，也可挑戰更先進製程，因此一直是美國出口管制的重要項目。自2019年起，ASML即無法向中國出口EUV設備，近年美國更持續要求盟友收緊高階DUV設備出口，使中國加速投入國產設備研發。

產業人士指出，過去中國晶片廠即使具備設計能力，也仍高度依賴ASML等海外設備供應商，一旦出口管制升級，先進製程與擴產計畫便可能受到影響。如今國產DUV開始量產，雖然性能、可靠度及良率仍與ASML產品存在差距，但至少可為成熟製程提供替代方案，也提高中國半導體供應鏈自主性。