檢方調查，陳力銘曾在台積電12廠良率部門服務，熟悉內部防護措施。離職後進入東京威力科創，為協助公司提升蝕刻機台效能，透過與舊同事的人脈，要求吳秉駿、戈一平及廖姓工程師協助，提供台積電2奈米製程的關鍵檔案。陳男再以拍照重製方式交付給日商，藉此爭取台積電先進製程的設備訂單。
台積電今年7月初察覺異狀後，隨即通報檢方。高檢署智慧財產分署指揮調查局展開搜索與約談，並扣得相關證物。經分析電磁紀錄，認定陳、吳、戈三人涉案明確，上月27日偵結後提起公訴，並聲請續押。
起訴書指出，陳力銘涉及《營業秘密法》「意圖域外使用而竊取營業秘密罪」與《國家安全法》「國家核心關鍵技術域外使用罪」，請求合併執行14年徒刑；吳秉駿則被求刑9年，戈一平求刑7年。至於廖姓工程師雖曾協助，但未有供國外使用的意圖，檢方已予簽結。
智財法院稍早已針對3名被告的羈押情況召開庭訊，是否交保將由法院裁定。
