南茂與群創今日同步公告資產交易案,南茂以8.8億元取得群創位於台南新市區的南科二廠。群創光電表示,本次處分之南科模組廠建物面積約為34,316平方公尺(折合約10,380 坪),扣除帳面價值及相關成本後,預計處分利益約6.59億元,將用於挹注公司營運及未來發展動能。
南茂近期法說會釋出樂觀展望,預期今年下半年營運動能將明顯優於上半年。南茂指出,目前記憶體封測產能持續滿載,特別是在高頻寬記憶體(HBM)帶動下的DDR5與未來DDR6產品需求爆發,部分客戶甚至願意支付雙倍價格搶產能,並尋求簽訂為期3年的長期合約以保障稼動率。
南茂表示,新購置的廠房將直接用於擴充產能,解決目前的產能去瓶頸問題。相較於自行興建廠房需耗時2~3年,取得現成廠房與設施最快數個月內就能完成設備進駐與驗證,極大化掌握市場景氣回溫的紅利。
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