輝達新晶片帶動「冷革命3.0」 外資按讚台散熱三雄水冷工藝
輝達AI晶片再創功耗新高,帶動液冷技術需求持續攀高。(示意圖,本刊資料照)

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輝達新晶片帶動「冷革命3.0」 外資按讚台散熱三雄水冷工藝

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2025/10/03 23:33:00

記者:鏡週刊
輝達AI晶片再創功耗新高,帶動液冷技術需求持續攀高。TrendForce指出今年液冷技術在AI資料中心的滲透率將大幅提升至33%。外資券商指出,台廠奇鋐有機會為輝達Ultra機型提供微通道冷板技術。此外雙鴻、健策等台系散熱大廠,亦全力與國際客戶合作開發中。

輝達預計未來兩年內,釋出的AI新平台Rubin和Feynman,功耗高達2,000至3,000W,現行的散熱技術已無法因應。業界傳出輝達要求供應商開發「微通道水冷板 (MCCP)」,單價較現有方案高三至五倍,引爆「冷革命 3.0」商機。

據大和證券最新報告指出,奇鋐很可能為輝達的Ultra版機型提供MCCP技術。這種水冷板將微米級的水冷通道,貼合於封裝蓋上,大幅縮短晶片與水冷液的距離,提升散熱效率。

外資分析師表示,今年迄今奇鋐為GB200、GB300設計的散熱零組件,出貨量超越預期,因此預期奇鋐在今年第三季和第四季的營收表現,可望超越分析團隊和彭博的市場預測評估。因此大和證券將奇鋐評為買進、未來12個月目標價新臺幣1,310元。

此外,針對另一散熱廠健策同時具備均熱板(氣冷)和水冷板研發製造實力,雙技術加持,墊高競爭壁壘。境外法人持續增持,2日達到28.4%,顯現市場的高度期待。

雙鴻亦不遑多讓,今年稍早,均熱板取得AMD認證,開始出貨,打破健策寡占。今年8月雙鴻單月營收18.79億元,年增31.9%,9月營收可望再創新高。散熱三雄搶進CSP大廠各有佈局。

分析師提醒,業界尚未確定下一世代AI伺服器平台將使用水冷板或氣冷板,若高毛利訂單進度不如預期、AI伺服器採用速度放緩,或經濟衰退,等等因素都可能導致散熱需求的下行風險。

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