「未來先進製程廠房都需要這樣的設備系統。」半導體無塵室污染防治廠濾能董事長黃銘文表示，過去半導體製程線寬較寬，所以微污染分子在這個線寬下所佔比例很小，不過隨著進入先進製程，線寬愈來愈窄是趨勢，只要一點污染物就會破壞原本線路，造成良率下降。
黃銘文解釋，濾能的設備可以處理揮發性有機物（Volatile Organic Compounds, VOCs），這項技術領先於其他競爭者，因為目前台灣其他同業設備只能應對過去主流的兩種污染物。
這款設備可以減少濾網的使用量，且更環保，在未來，這種設備很可能會成為先進製程的標準配備，因為它能提升製程穩定性和良率。
目前濾能在台灣已經取得的訂單 。其中一家客戶已給予採購訂單（PO），且另一家正在評估中，同時由於台灣晶圓代工大廠未來將有3成先進製程產能在美國，濾能正在積極拓展美國市場。
濾能8月合併營收新台幣6,513萬元，較去年同期大幅成長86%。成長動能主要來自於先進製程擴產所帶動的高等級AMC濾網需求，以及公司於南科新廠量產後製造效率與供貨能力全面提升，使濾網出貨量與市場滲透率持續增加。預估隨著國內外半導體大廠訂單持續增加，以及自有專利設計的新濾淨設備導入，下半年營運將可望逐季增溫。
濾能自主研發的AMC濾網產品目前在2至10奈米的先進製程應用相當廣泛，由於半導體先進製程對於AMC濾網的潔淨度與穩定性要求極高，一旦獲得認可，將可望成為長期夥伴；加上濾能是國內少數「AMC濾網+駐廠服務」的整合型供應商，預期逐步恢復的AMC濾網訂單動能，再搭配客戶建廠及先進製程量產的進度如期推展，下半年起月營收表現可望逐步回升至2022年水準。隨著全球半導體製程邁入次世代，製程環境的潔淨度已成為決定晶片良率與效能的關鍵因素。
